隨著PCB設(shè)備繼續(xù)向輕,薄,短和高密度方向發(fā)展,它們對許多PCB設(shè)備和生產(chǎn)工藝提出了更高的要求。其中,PCB電路圖案間距越來越小,孔銅厚度要求越來越高,這對圖案電鍍設(shè)備的均勻性提出了新的挑戰(zhàn)。河北瑞思特公司的圖案電鍍線用整板精細(xì)線(小間距為3.5密耳)處理電路板時,電路板側(cè)面的細(xì)線容易卡住,導(dǎo)致報廢。此外,發(fā)現(xiàn)板上的常規(guī)銅厚度分布不均勻,導(dǎo)致半成品芯片無法判斷銅孔,無法有效判斷半成品的銅厚度。因此,決定對該生產(chǎn)線的鍍層均勻性進(jìn)行特殊的試驗分析,并組織改進(jìn)。
1、改善原理:
1)整個圖形電鍍線的電鍍窗口為52×24(英寸2),深度方向為24英寸;
2)使用盛逸FR-4板材,尺寸:24X24英寸,2塊此尺寸板并在電鍍槽中放電進(jìn)行測試;
3)試驗板從溶液表面0-1英寸,懸浮在溶液中間,沒有分流棒,22 ASF,電鍍60分鐘;
4)深度方向是指從電鍍液表面到溶液底部的電路板方向;水平方向指的是與陰極棒平行的方向;
5)測量儀器是德國Fischer的感應(yīng)表面銅厚度測試儀,測量誤差<0.5um;
6)在試驗過程中每2×2英寸2取一個測量點(diǎn),并在電鍍后從銅厚度中減去電鍍前的銅厚度進(jìn)行統(tǒng)計分析;
7)自每次測試以來,2板的兩側(cè)有576個數(shù)據(jù)。由于篇幅限制,本文僅顯示每個正面測量的示意圖。 7個測試的數(shù)據(jù),作為附件附加,帶有單獨(dú)的文檔。
2、改善目標(biāo)和改善方法:
1)總體COV(標(biāo)準(zhǔn)偏差與總體平均值的百分比)<11%(行業(yè)參考標(biāo)準(zhǔn)<= 8-12%);
2)深度方向鍍銅的平均厚度(深度方向非常差)<3um。
4,次測試:
選擇12#線的線進(jìn)行均勻性測試。整體COV為20.8%。水平不均勻性主要在板的兩側(cè)。通過在機(jī)架兩側(cè)增加一個分流桿并調(diào)節(jié)陽極間距可以避免和改善。
另外,從深度方向的平均銅厚度分布圖(如圖1所示)可以看出存在以下問題:
如上圖1所示:
首先測試深度方向上的平均銅厚度分布
圖1測試深度方向的銅平均厚度分布
?。?)在液面1-3的英寸區(qū)域,銅厚度比整個板的平均鍍銅厚4.1um;
?。?)在液面的20-24英寸區(qū)域內(nèi),銅的厚度比整個板的平均值薄4.8um;
深鍍銅的平均值為8.9μm。